Threshold Levels and Effects of Feed Gas Impurities on Plasma Etching Processes

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1990-11, Vol.137 (11), p.3526-3536
Hauptverfasser:	Zau, Gavin C. H., Baston, Linda D., Gray, David C., Tepermeister, Igor, Sawin, Herbert H., Mocella, Michael T.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!