Cl2 and SiCl4 reactive ion etching of In-based III-V semiconductors

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1990-10, Vol.137 (10), p.3188-3202
Hauptverfasser:	PEARTON, S. J, CHAKRABARTI, U. K, HOBSON, W. S, PERLEY, A. P
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Mechanical and acoustical properties adhesion Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Solid-fluid interfaces Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties)
Online-Zugang:	Volltext
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