New-high-resolution and high-sensitivity deep UV, X-ray, and electron-beam resists

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1991-04, Vol.138 (4), p.1076-1079
Hauptverfasser:	HATZAKIS, M, STEWART, K. J, SHAW, J. M, RISHTON, S. A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Exact sciences and technology Physical properties Polymer industry, paints, wood Properties and testing Radiation influence Technology of polymers
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