Stability of TiB2 as a diffusion barrier on silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1991-10, Vol.138 (10), p.3062-3067
Hauptverfasser:	CHOI, C. S, RUGGLES, G. A, SHAH, A. S, XING, G. C, OSBURN, C. M, HUNN, J. D
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Diffusion in solids Diffusion of impurities Exact sciences and technology Physics Transport properties of condensed matter (nonelectronic)
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