Nucleation on SiO2 during the selective chemical vapor deposition of tungsten by the hydrogen reduction of tungsten hexafluoride

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1994-12, Vol.141 (12), p.3532-3539
Hauptverfasser:	DESATNIK, N, THOMPSON, B. E
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Metals. Metallurgy Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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