In situ observation system for silicon wafer transient deformation during insertion/withdrawal into/from horizontal furnaces

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1994-05, Vol.141 (5), p.1299-1303
Hauptverfasser: ITSUMI, M, KAI, J
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2054913