Ultrahigh Vacuum Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition of Epitaxial Silicon on (100) Silicon: II . Carbon Incorporation info Layers and at Interfaces of Multilayer Structures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1995-11, Vol.142 (11), p.3970-3974
Hauptverfasser:	Sanganeria, Mahesh K., Öztürk, Mehmet C., Harris, Gari, Violette, Katherine E., Lee, C. Archie, Maher, Dennis M.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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