Indium tin oxide dry etching using HBr gas for thin-film transistor liquid crystal displays

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1995-07, Vol.142 (7), p.2470-2473
Hauptverfasser: TAKABATAKE, M, WAKUI, Y, KONISHI, N
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.2044322