Interfacial Diffusion Studies of Cu∕(5 nm Ru)∕Si Structures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2005, Vol.152 (11), p.G808
Hauptverfasser:	Arunagiri, Tiruchirapalli N., Zhang, Yibin, Chyan, Oliver, Kim, Moon J., Hurd, Trace Q.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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