Erratum: ALD of Hafnium Oxide Thin Films from Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium and Ozone [J. Electrochem. Soc., 152, G213 (2005)]

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2005, Vol.152 (5), p.L9
Hauptverfasser:	Liu, Xinye, Ramanathan, Sasangan, Longdergan, Ana, Srivastava, Anuranjan, Lee, Eddie, Seidel, Thomas E., Barton, Jeffrey T., Pang, Dawen, Gordon, Roy G.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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