Limitation of HF-based chemistry for deep-submicron contact hole cleaning on silicides

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1998-09, Vol.145 (9), p.3240-3246
Hauptverfasser:	BAKLANOV, M. R, KONDOH, E, DONATON, R. A, VANHAELEMEERSCH, S, MAEX, K
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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