Electrical characterization of thin SiO2 films on silicon created by anodic oxygen corona discharge processing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1998-08, Vol.145 (8), p.2937-2943
Hauptverfasser: SAYEDI, S. M, LANDSBERGER, L. M, KAHRIZI, M, BELKOUCH, S, LANDHEER, D
Format: Artikel
Sprache:eng
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Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.1838740