Gravitational stress-induced dislocations in large-diameter silicon wafers studied by X-ray topography and computer simulation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1998-07, Vol.145 (7), p.2523-2529
Hauptverfasser: SHIMIZU, H, ISOMAE, S, MINOWA, K, SATOH, T, SUZUKI, T
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.1838672