Reduction in Contact Resistance with In Situ O 2 Plasma Treatment

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1998-07, Vol.145 (7), p.2480-2485
Hauptverfasser:	Yonekura, Kazumasa, Sakamori, Shigenori, Kawai, Kenji, Miyatake, Hiroshi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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