Substrate effect on plasma-enhanced chemical vapor deposited silicon nitride

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1997-09, Vol.144 (9), p.3198-3204
Hauptverfasser:	SHERMAN, S, WAGNER, S, MUCHA, J, GOLTSCHO, R. A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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