The evolution of (001) Si/SiO2 interface roughness during thermal oxidation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1997-08, Vol.144 (8), p.2886-2893
Hauptverfasser:	FANG, S. J, CHEN, W, YAMANAKA, T, HELMS, C. R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Interface structure and roughness Low-dimensional structures (superlattices, quantum well structures, multilayers): structure, and nonelectronic properties Physics Solid surfaces and solid-solid interfaces Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties)
Online-Zugang:	Volltext
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