The evolution of (001) Si/SiO2 interface roughness during thermal oxidation
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Veröffentlicht in: | Journal of the Electrochemical Society 1997-08, Vol.144 (8), p.2886-2893 |
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Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
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Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0013-4651 1945-7111 |
DOI: | 10.1149/1.1837912 |