Influence of interface roughness on silicon oxide thickness measured by ellipsometry

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1997-08, Vol.144 (8), p.L231-L233
Hauptverfasser:	FANG, S. J, CHEN, W, YAMANAKA, T, HELMS, C. R
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physics Structure and morphology thickness Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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