Incubation time measurements in thin-film deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1997-06, Vol.144 (6), p.2101-2106
Hauptverfasser:	REM, J. B, HOLLEMAN, J, VERWEIJ, J. F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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