A one-step shallow trench global planarization process using chemical mechanical polishing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1997-05, Vol.144 (5), p.1838-1841
Hauptverfasser: BOYD, J. M, ELLUL, J. P
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.1837687