Modeling of plasma etch systems using ordinary least squares, recurrent neural network, and projection to latent structure models

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1997-04, Vol.144 (4), p.1379-1389
Hauptverfasser:	BUSHMAN, S, EDGAR, T. F, TRACHTENBERG, I
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!