Thin film properties of tungsten nucleation layer in blanket tungsten deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1997-03, Vol.144 (3), p.1087-1090
Hauptverfasser:	HEGDE, R. I, TOBIN, P. J, SITARAM, A. R, KLEIN, J
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Metals. Metallurgy Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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