Thermal Oxynitridation of Silicon in  N 2 O  Ambients

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 1996-10, Vol.143 (10), p.3372-3376
Hauptverfasser: Kim, Keunjoo, Lee, Young Hee, Suh, Moon‐Suhk, Youn, Chang‐Joo, Lee, Kee‐Bang, Lee, Hyung Jae
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.1837214