Plasma etching endpointing by monitoring radio-frequency power systems with an artificial neural network

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1996-06, Vol.143 (6), p.2029-2035
Hauptverfasser:	MAYNARD, H. L, RIETMAN, E. A, LEE, J. T. C, IBBOTSON, D. E
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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