Source Gas Pulse-Introduced MOCVD of HfO[sub 2] Thin Films using Hf(O-t-C[sub 4]H[sub 9])[sub 4]

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2004, Vol.151 (11), p.C698
Hauptverfasser:	Nakayama, Makoto, Takahashi, Kenji, Hino, Shiro, Funakubo, Hiroshi, Tokumitsu, Eisuke
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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