Impact of Deposition and Annealing Temperature on Material and Electrical Characteristics of ALD HfO[sub 2]

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2004, Vol.151 (10), p.F220
Hauptverfasser:	Triyoso, D., Liu, R., Roan, D., Ramon, M., Edwards, N. V., Gregory, R., Werho, D., Kulik, J., Tam, G., Irwin, E., Wang, X.-D., La, L. B., Hobbs, C., Garcia, R., Baker, J., White, B. E., Tobin, P.
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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