Study of the thermal properties of Pr(III) precursors and their implementation in the MOCVD growth of praseodymium oxide films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2004, Vol.151 (9), p.F206-F213
Hauptverfasser:	LO NIGRO, Raffaella, TORO, Roberta G, MALANDRINO, Graziella, FRAGALA, Ignazio L, ROSSI, Patrizia, DAPPORTO, Paolo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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