Tribological analysis of CMP with partial asperity contact

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2003-10, Vol.150 (10), p.G630-G637
Hauptverfasser: JENG, Yeau-Ren, HUANG, Pay-Yau, PAN, Wen-Chueh
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.1602086