High Thermal Stability of Ni Monosilicide from Ni-Ta Alloy Films on Si(100)

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Electrochemical and solid-state letters 2003-10, Vol.6 (10), p.G122
Hauptverfasser: Kim, Min-Joo, Choi, Hyo-Jick, Ko, Dae-Hong, Ku, Ja-Hum, Choi, Siyoung, Fujihara, Kazuyuki, Yang, Cheol-Woong
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1099-0062
DOI:10.1149/1.1601813