An investigation of particle dynamics in a rotating disk chemical vapor deposition reactor

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2003-02, Vol.150 (2), p.G127-G139
Hauptverfasser:	KREMER, D. M, DAVIS, R. W, MOORE, E. F, MASLAR, J. E, BURGESS, D. R, EHRMAN, S. H
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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