Transient enhanced diffusion of B in Si implanted with decaborane cluster ions

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2002-08, Vol.149 (8), p.G474-G476
Hauptverfasser:	SOSNOWSKI, Marek, ALBANO, Maria A, CHENG LI, GOSSMANN, Hans Joachim L, JACOBSON, Dale C
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical interdiffusion diffusion barriers Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Diffusion in solids Exact sciences and technology Physics Transport properties of condensed matter (nonelectronic)
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