Single-Wafer Hot Wall Rapid Thermal Processing for Thin Gate Oxide Films

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Electrochemical and solid-state letters 2002-05, Vol.5 (5), p.F11
Hauptverfasser:	Senzaki, Yoshihide, Schaefer, Marci, Sisson, Joseph, Barelli, Carl, Bailey, Jeff, Herring, Robert, Hayn, Regina
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!