Removal of submicrometer particles from silicon wafer surfaces using HF-based Cleaning mixtures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2001, Vol.148 (12), p.G683-G691
Hauptverfasser:	VOS, R, LUX, M, XU, K, FYEN, W, KENENS, C, CONARD, T, MERTENS, P, HEYNS, M, HATCHER, Z, HOFFMAN, M
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Electronics Exact sciences and technology Miscellaneous Semiconductor devices Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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