Depth profile analysis of ultrathin silicon oxynitride films by ToF-SIMS

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2000-05, Vol.147 (5), p.1893-1902
Hauptverfasser:	DOUGLAS, M. A, HATTANGADY, S, EASON, K
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Composition and phase identification Condensed matter: structure, mechanical and thermal properties Exact sciences and technology Physics Surfaces and interfaces thin films and whiskers (structure and nonelectronic properties) Thin film structure and morphology
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