Acid-based etching of silicon wafers : Mass-transfer and kinetic effects

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2000, Vol.147 (1), p.176-188
Hauptverfasser:	KULKARNI, M. S, ERK, H. F
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Physics Surface treatments
Online-Zugang:	Volltext
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