Alternatives to hydrogen fluoride for photoelectrochemical etching of silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1999-12, Vol.146 (12), p.4485-4489
Hauptverfasser:	RIEGER, M. M, FLAKE, J. C, KOHL, P. A
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Applied sciences Chemistry Electrochemistry Electronics Exact sciences and technology General and physical chemistry Microelectronic fabrication (materials and surfaces technology) Photoelectrochemistry. Electrochemiluminescence Semiconductor electronics. Microelectronics. Optoelectronics. Solid state devices
Online-Zugang:	Volltext
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