Laser Reflectance Interferometry for In Situ Determination of Silicon Etch Rate in Various Solution

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1999-10, Vol.146 (10), p.3890-3895
Hauptverfasser:	Steinsland, Elin, Finstad, Terje, Hanneborg, Anders
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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