Cobalt metallorganic chemical vapor deposition and formation of epitaxial CoSi2 layer on Si(100) substrate

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 1999-07, Vol.146 (7), p.2720-2724
Hauptverfasser:	Rhee, Hwa Sung, Ahn, Byung Tae
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemical vapor deposition (including plasma-enhanced cvd, mocvd, etc.) Cross-disciplinary physics: materials science rheology Exact sciences and technology Materials science Methods of deposition of films and coatings film growth and epitaxy Physics
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