Diode analysis of high-energy boron implantation-induced P-well defects

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Electrochemical Society 2001-09, Vol.148 (9), p.G507-G512
Hauptverfasser: POYAI, A, SIMOEN, E, CLAEYS, C, ROOYACKERS, R, BADENES, G
Format: Artikel
Sprache:eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0013-4651
1945-7111
DOI:10.1149/1.1386917