Characterization of Carbon-Doped SiO[sub 2] Low k Thin Films: Preparation by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition from Tetramethylsilane

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Electrochemical Society 2001, Vol.148 (7), p.F148
Hauptverfasser:	Han, Licheng M., Pan, Ji-Sheng, Chen, Shou-Mian, Balasubramanian, N., Shi, Jianou, Wong, Ling Soon, Foo, P. D.
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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