Improvement of the Interface Impurity Profile of Vapor Grown GaAs by Using Doubly Doped Substrate

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 1970-01, Vol.9 (12), p.1544
Hauptverfasser: Mizuno, Osamu, Kikuchi, Sadao, Maruyama, Mitsuhiro
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.9.1544