Investigation of Silicon-Silicon Dioxide Interface Using MOS Structure

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 1966-01, Vol.5 (2), p.180
Hauptverfasser: Miura, Yoshio, Matukura, Yasuo
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.5.180