Hafnium Oxide Film Etching Using Hydrogen Chloride Gas

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2009-12, Vol.48 (12), p.125503, Article 125503
Hauptverfasser:	Habuka, Hitoshi, Yamaji, Masahiko, Kobori, Yoshitsugu, Horii, Sadayoshi, Kunii, Yasuo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!