Improvement in Chemical-Vapor-Deposited-SiO 2 Film Properties by Annealing with UV-Light-Excited Ozone

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2009-11, Vol.48 (11), p.116509
Hauptverfasser:	Nishiguchi, Tetsuya, Saito, Shigeru, Kameda, Naoto, Kekura, Mitsuru, Nonaka, Hidehiko, Ichimura, Shingo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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