Effect of Ta 2 O 5 Doping on Electrical Characteristics of SrTiO 3 Metal–Insulator–Metal Capacitors

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Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2009-08, Vol.48 (8), p.81401
Hauptverfasser: Huang, Ching-Chien, Cheng, Chun-Hu, Liou, Bo-Heng, Yeh, Fon-Shan, Chin, Albert
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.48.081401