Decomposition Analysis of Chemically Amplified Resists for Improving Critical Dimension Control

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2009-06, Vol.48 (6S), p.6
Hauptverfasser: Shiono, Daiju, Hada, Hideo, Hirayama, Taku, Onodera, Junichi, Watanabe, Takeo, Kinoshita, Hiroo
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.48.06FC08