Diffusion of Indium Implanted in Silicon Oxides

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2009-05, Vol.48 (5R), p.56501
Hauptverfasser:	Chang, Ruey-Dar, Ling, Yu-Ting, Liu, Taylor, Tsai, Jung-Ruey, Ma, Chia-Chi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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