Optimum Body Bias Constraints for Leakage Reduction in High-k Complementary Metal–Oxide–Semiconductor Circuits

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2009-05, Vol.48 (5R), p.54501
Hauptverfasser:	Chawda, Pradeep Kumar, Anand, Bulusu, Rao, V. Ramgopal
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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