New Method to Obtain (001) Surface-Oriented Polycrystalline Silicon Films by Intensity-Modulated Excimer Laser Annealing: Molecular Dynamics Study
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Japanese Journal of Applied Physics 2009-03, Vol.48 (3S2), p.3 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!