New Method to Obtain (001) Surface-Oriented Polycrystalline Silicon Films by Intensity-Modulated Excimer Laser Annealing: Molecular Dynamics Study

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2009-03, Vol.48 (3S2), p.3
Hauptverfasser: Matsubara, Norie, Ogata, Tomohiko, Mitani, Takanori, Munetoh, Shinji, Motooka, Teruaki
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.48.03B006